Mejora de la adherencia de recubrimientos duros sobre aceros en base a metodos de pretratamiento del substrato por procesos de plasma. (Record no. 26820)

MARC details
000 -LEADER
campo de control de longitud fija 01803mm aa2200193a 44500
000 - LEADER
campo de control de longitud fija aIT/T--30/98
003 - IDENTIFICADOR DE NÚMERO DE CONTROL
campo de control AR-SmCIES
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija 980824s1998 ag fq d # spa#d
040 ## - FUENTE DE CATALOGACIÓN
Centro catalogador/agencia de origen AR-SmCIES
100 1# - ENTRADA PRINCIPAL--NOMBRE DE PERSONA
Nombre de persona Perillo, Patricia Maria
245 10 - MENCIÓN DEL TÍTULO
Título Mejora de la adherencia de recubrimientos duros sobre aceros en base a metodos de pretratamiento del substrato por procesos de plasma.
260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC.
Fecha de publicación, distribución, etc. 1998.
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA
Dimensiones 94 p.
500 ## - NOTA GENERAL
Nota general Cantidad de ejemplares: 1
502 ## - NOTA DE TESIS
Nota de tesis Tesis para optar al título de Magister en Ciencia y Tecnologia de Materiales. Director: Rodrigo, Adolfo
520 ## - RESUMEN, ETC.
Sumario, etc. El presente trabajo tiene por objeto contribuir al mejor conocimiento de los metodos de mejora de adherencia basados en nitruracion previa del substrato y en la deposicion de una intercapa de titanio entre el substrato y el recubrimiento, para el caso de recubrimientos de TiN producidos por plasma CVD (Chemical Vapor Deposition). A tal efecto se utilizo un reactor de plasma CVD para producir tanto los recubrimientos de TiN como los correspondientes pretratamientos del substrato. Las experiencias se realizaron utilizando substratos planos de acero rapido simil AISI M2. En el caso del proceso duplex, se analizo en detalle el efecto de la duracion del proceso de nitruracion sobre la adherencia del recubrimiento. En el caso de la deposicion de una intercapa de titanio, se estudio el efecto del espesor de la intercapa sobre la adherencia del recubrimiento de TiN. En ambos casos, se analizaron los mecanismos responsables de la mejora de la adherencia y las condiciones optimas para aplicacion de los metodos etudiados.
590 ## - NOTA LOCAL (RLIN)
Nota local Lugar de trabajo: Centro Atomico Constituyentes
710 1# - ENTRADA AGREGADA--NOMBRE DE ENTIDAD CORPORATIVA
Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada Comisión Nacional de Energía Atómica.
Unidad subordinada Instituto de Tecnología Sabato.
Nombre de entidad corporativa o nombre de jurisdicción como elemento de entrada Universidad Nacional de San Martín.
Holdings
Estatus retirado Estado de pérdida Fuente de la clasificación o esquema de estantería Estado de daño No para préstamo Biblioteca de origen Biblioteca actual Fecha de adquisición Número de inventario Signatura topográfica completa Código de barras Visto por última vez Precio de reemplazo Tipo de ítem Koha
    Dewey Decimal Classification     Centro de Información Eduardo Savino Centro de Información Eduardo Savino 02/10/2018 IT/T--30/98 IT/T--30/98 IT/T--30/98 02/10/2018 02/10/2018 Thesis