Resistive switching : (Record no. 26570)

MARC details
000 -LEADER
campo de control de longitud fija nam a22 a 4500
003 - IDENTIFICADOR DE NÚMERO DE CONTROL
campo de control AR-SmCIES
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN
campo de control 20190115153206.0
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL
campo de control de longitud fija 180425s2016 gw a|||frfn|| 001 0 eng d
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO
Número Internacional Estándar del Libro 9783527334179
041 ## - CÓDIGO DE IDIOMA
Código de lengua del texto/banda sonora o título independiente eng
044 ## - CÓDIGO DEL PAÍS DE LA ENTIDAD EDITORA/PRODUCTORA
Código MARC del país gw
080 0# - NÚMERO DE LA CLASIFICACIÓN DECIMAL UNIVERSAL
Número de la Clasificación Decimal Universal 620.3
245 00 - MENCIÓN DEL TÍTULO
Título Resistive switching :
Resto del título from fundamentals of nanionic redox processes to memristive device applications /
Mención de responsabilidad, etc. edited by Daniele Ielmini and Rainer Waser.
260 1# - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC.
Lugar de publicación, distribución, etc. Weinheim, Germany :
Nombre del editor, distribuidor, etc. Wiley-VCH,
Fecha de publicación, distribución, etc. c2016.
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA
Extensión xviii, 755 p. :
Otros detalles físicos il. (principalmente col.), diagrs. ;
Dimensiones 24 cm.
504 ## - NOTA DE BIBLIOGRAFÍA, ETC.
Nota de bibliografía, etc. Nota Incluye bibliografía al final de cada capítulo e índice analítico.
505 00 - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO
Título 1. Introduction to nanoionic elements for information technology /
Mención de responsabilidad Rainer Waser, Daniele Ielmini, Hiro Akinaga, Hisashi Shima, H.-S. Philip, Wong, Joshua J. Yang, and Simon Yu --
Título 2. ReRAM Cells in the framework of two-terminal devices /
Mención de responsabilidad E. Linn, M. Di Ventra, and Y. V. Pershin --
Título 3. Atomic and electronic structure of oxides /
Mención de responsabilidad Tobias Zacherle, Peter C. Schmidt, and Mandfred Martin --
Título 4. Defect structure of metal oxides /
Mención de responsabilidad Giuliano Gregori --
Título 5. Ion transport in metal oxides /
Mención de responsabilidad Roger A. De Souza --
Título 6. Electrical transport in transition metal oxides /
Mención de responsabilidad Franklin J. Wong and Shriram Ramanathan --
Título 7. Quantum point contact conduction /
Mención de responsabilidad Jan van Ruitenbeek, Monica Morales Masis, and Enrique Miranda --
Título 8. Dielectric breakdown process /
Mención de responsabilidad Jordi Suñé, Nagarajan Raghavan, and K. L. Pey --
Título 9. Physics and chemistry of nanoionic cells /
Mención de responsabilidad Ilia Valov and Rainer Waser --
Título 10. Electroforming processes in metal oxide resistive-switching cells /
Mención de responsabilidad Doo Seok Jeong, Byung Joon Choi, Cheol Seong Hwang --
Título 11. Universal switching behavior /
Mención de responsabilidad Daniele Ielmini and Stephan Menzel --
Título 12. Quasitastic and pulse measuring techniques /
Mención de responsabilidad Antonio Torrezan, Gilberto Mederiros-Ribeiro, and Stephan Tiedke --
Título 13. Unipolar resistive-switching mechanisms /
Mención de responsabilidad Ludovic Goux and Sabina Spiga --
Título 14. Modeling the VCM- and ECM-Type Switching Kinetics /
Mención de responsabilidad Stephan Menzel and Ji-Hyun Hur --
Título 15. Valence change observed by nanospectroscopy /
Mención de responsabilidad Christian Lenser, Regina Dittmann, and John Paul Strachan --
Título 16. Interface-type switching /
Mención de responsabilidad Akihito Sawa and Rene Meyer --
Título 17. Electrochemical metallization memories /
Mención de responsabilidad Michael N. Kozicki, Maria Mitkova, and Ilia Valov --
Título 18. Atomic Switches /
Mención de responsabilidad Kazuya Terabe, Tohru Tsuruoka, Tsuyoshi Hasegawa, Alpana Nayak, Takeo Ohno, Tomonobu Nakayama, and Masakazu Aono --
Título 19. Scaling limits of nanoionic devices /
Mención de responsabilidad Victor Zhirnov and Gurtej Sandhu --
Título 20. Integration technology and cell design /
Mención de responsabilidad Fred Chen, Jun Y. Seok, and Cheol S. Hwang --
Título 21. Reliability aspects /
Mención de responsabilidad Dirk J. Wouters, Yang-Yin Chen, Andrea Fantini, and Nagarajan Raghavan --
Título 22. Select device concepts for crossbar arrays /
Mención de responsabilidad Geoffrey W. Burr, Rohit S. Shenoy, and Hyunsang Hwang --
Título 23. Bottom-up approaches for resistive switching memories /
Mención de responsabilidad Sabina Spiga, Takeshi Yanagida, and Tomoji Kawai --
Título 24. Switch application in FPGA /
Mención de responsabilidad Toshitsugu Sakamoto, S. Simon Wong, and Young Yang Liauw --
Título 25. ReRAM-based neuromorphic computing /
Mención de responsabilidad Giacomo Indiveri, Eike Linn, and Stefano Ambrogio.
650 17 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA--TÉRMINO DE MATERIA
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada NANOTECNOLOGIA
9 (RLIN) 288
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada NANOELECTRONICA
9 (RLIN) 294
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada CIRCUITOS ELECTRONICOS
9 (RLIN) 295
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada CIRCUITOS DE CONMUTACION
9 (RLIN) 296
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada CONDUCTIVIDAD ELECTRICA
9 (RLIN) 297
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada MEMORIAS
9 (RLIN) 298
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada DISPOSITIVOS DE MEMORIAS DE CAPA DELGADA
9 (RLIN) 289
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada MEMORIAS MAGNETICAS
9 (RLIN) 290
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada MEMORIAS DE SEMICONDUCTORES
9 (RLIN) 291
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada MATERIALES
9 (RLIN) 104
9 (RLIN) 292
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada INGENIERIA ELECTRICA
Fuente del encabezamiento o término inist
Fuente del encabezamiento o término INIS
Término de materia o nombre geográfico como elemento de entrada FISICA DEL ESTADO SOLIDO
9 (RLIN) 293
653 10 - TÉRMINO DE INDIZACIÓN--NO CONTROLADO
Término no controlado Materia condensada
-- ReRAM
942 ## - ELEMENTOS DE ENTRADA SECUNDARIOS (KOHA)
Fuente de la clasificación o esquema de estantería Universal Decimal Classification
Tipo de ítem Koha Books
Parte de clasificación 620.3
Holdings
Estatus retirado Estado de pérdida Fuente de la clasificación o esquema de estantería Estado de daño No para préstamo Biblioteca de origen Biblioteca actual Ubicación en estantería Fecha de adquisición Fuente de adquisición Número de inventario Total de préstamos Total de renovaciones Signatura topográfica completa Código de barras Visto por última vez Fecha del último préstamo Precio de reemplazo Tipo de ítem Koha
    Dewey Decimal Classification     Centro de Información Eduardo Savino Centro de Información Eduardo Savino Revistero 26/04/2018 Compra 51415 2 8 620.3 R433 51415 04/02/2025 06/01/2022 26/04/2018 Books